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plasway-Technologies GmbH

Atomic Layer, Atomic Layer Etching, Deposition and Atomic..., Enhanced Layer, Enhanced Layer Deposition, Layer Deposition, Layer Etching, Plasma Enhanced, Plasma Enhanced Layer, Way´s
Adresse / Anfahrt
Heinrich-Heine-Straße 2b
01728 Bannewitz
1x Adresse:

Maria-Reiche-Straße 3
01109 Dresden


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HR-Bekanntmachungen:

2015-12-09:
Gesellschaft mit beschränkter Haftung. Gesellschaftsvertrag vom 01.12.2015. Geschäftsanschrift: Heinrich-Heine-Str. 2 b, 01728 Bannewitz OT Cunnersdorf. Gegenstand des Unternehmens: Technologische Beratung / Consulting im Bereich der Mikroelektronik und verwandten Industrien, insbesondere der plasmaunterstützten Abscheidung und Ätzung; Entwicklung und Herstellung von Komponenten und vollständigen Reaktionskammern, insbesondere im Bereich der plasmaunterstützten Abscheidung und Ätzung. Stammkapital: 25.000,00 EUR. Ist nur ein Geschäftsführer bestellt, so vertritt er die Gesellschaft allein. Sind mehrere Geschäftsführer bestellt, so wird die Gesellschaft durch zwei Geschäftsführer oder durch einen Geschäftsführer gemeinsam mit einem Prokuristen vertreten. Geschäftsführer: Wege, Stephan, Bannewitz OT Cunnersdorf, *10.11.1963, einzelvertretungsberechtigt; mit der Befugnis, im Namen der Gesellschaft mit sich im eigenen Namen oder als Vertreter eines Dritten Rechtsgeschäfte abzuschließen.

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